平方和（北京）科技申请一种基于凸缺陷的隐形眼镜印刷区污渍高精度检测方法及系统专利，可快速、高效地完成对隐形眼镜的全面检测
发布时间：2025-07-26 16:21 浏览量：30
金融界2025年7月26日消息，国家知识产权局信息显示，平方和（北京）科技有限公司申请一项名为“一种基于凸缺陷的隐形眼镜印刷区污渍高精度检测方法及系统”的专利，公开号CN120374539A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及计算机图像领域，具体是一种基于凸缺陷的隐形眼镜印刷区污渍高精度检测方法及系统，通过获取隐形眼镜图像，并对隐形眼镜图像进行预处理，得到预处理图像；对预处理图像进行基于形态学的边缘进行定位，得到印刷区外圈轮廓；计算印刷区外圈轮廓的凸包，基于印刷区外圈轮廓和凸包确定隐形眼镜图像的印刷区域的多个凸缺陷；并基于多个凸缺陷确定印刷区外圈轮廓的形态；基于多个凸缺陷构建表征印刷区外圈轮廓的圆形，并基于预先构建的掩模和圆形提取隐形眼镜图像的印刷区域的污渍。
天眼查资料显示，平方和（北京）科技有限公司，成立于2018年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本589.2608万人民币。通过天眼查大数据分析，平方和（北京）科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息105条，此外企业还拥有行政许可3个。